向中企泄露半导体技术，2人刑期被加重弗林

一家韩国公司前员工因向中国企业泄露半导体化学机械抛光（CMP）相关技术而被起诉，并被判处监禁。

中韩两国国旗示意图 © 路透社图片

韩联社报导指，大田高等法院周五对因违反韩国《工业技术泄露预防和保护法》等罪名被起诉的韩国公司前研究员A某（59岁）判处2年零6个月有期徒刑，与原判相同。两名同案犯被一同起诉，并被判处比一审更重的刑罚：分别判处1年6个月监禁和2年监禁并处罚金2000万韩元。

报导指，A某等人被指控在2019年至2020年期间，利用电脑和工作手机登录公司内网，查阅半导体晶圆抛光工艺等公司机密资料，并通过用个人手机拍摄等方式获取资料后，将其泄露给一家中国企业，因此被移送法院审理。

经查明，主犯A某在2018年未能晋升为高管后，于2019年6月与中国一家企业达成协议，共同开展半导体晶圆抛光液（CMP抛光液）制造业务，随后在继续为原公司工作的同时，通过即时通讯软件等方式，负责管理中国境内的抛光液生产设备建设及相关业务。之后，A某招募了一些在其他公司从事研究工作的同伙，并将他们调往中国。

报导指，一审法院判处A某有期徒刑2年零6个月，并指“这是一起严重的犯罪行为，使受害企业在技术研发方面投入的大量努力和成本付诸东流，严重破坏了相关领域的良好竞争和贸易秩序，对国家产业竞争力产生了不利影响”。两名同案犯分别被判处2年监禁，缓刑3年；以及1年零6个月监禁，缓刑2年。

据悉，上诉法院驳回了A某的两项上诉，并接受了检方的论点，即对同案犯的判刑过轻。上诉法院裁定，“这是一起有预谋、有组织的犯罪，需要对整个半导体行业发出警告，以防止未来发生类似犯罪”，并指“我们不接受被告关于泄露的数据不构成国家核心技术的说法”。