光刻机10万零件，谁造的？钛媒体

很多人一提起EUV光刻机，都认为这是人类科技史上工业皇冠，全球独一家，别无分店。

而且在EUV光刻机中，10万多个零件，全球供货，没有任何一个国家能单独制造，ASML真正的核心技术不到10%，是依靠全球化分工，把各部件让全世界顶级的厂商来生产、组装出来的。

比如德国的蔡司做镜头，美国的赛默飞做传感器，日本的 NSK 做轴承，瑞典的阿法拉伐做阀门。

光刻机10万零件谁造的？

光刻机有最难的三块技术，就是光源、光学系统、精密双工件台系统。其中光源和光学系统技术门槛最高，价值量也最大。

光源占整机15%-20%，光学系统占24%-30%，双工件台占12%左右。ASML把这两块最硬的骨头分别交给美国和德国的企业，自己负责把所有零件拼成一台能24小时不停跑的机器。

从技术层面来看，ASML高端EUV光刻机非常难以颠覆与超越。首先EUV制造所需的体积小，功率高且稳定极紫外线光源，这点美国Cymer公司一直掌握着成熟技术，其他国家都是向其采购的。

第二光学系统更是清一色德国血统，EUV光在真空里走，每面镜子都会吸收6%-8%的能量，一台机要11面镜子，加起来光能剩不到1%。所以每面镜子反射率必须做到70%左右。

反射镜面，只有用高精度和高光滑度的镜片才能聚焦和校准光线，从而光线才能精确无误的照射在硅片上来画出微小图案。目前能够达到光刻机要求的镜片标准的厂商也在德国。

蔡司从1990年代就开始跟ASML一起搞EUV光学，2012年才交付第一套量产镜组。

ASML为了绑死蔡司，购买了蔡司半导体光学子公司24.9%的股份。现在High-NA EUV镜子直径翻倍，重量上吨，还是只有蔡司能做。

此外是双工件台？简单说，就是光刻机里托着硅片来回跑的那个平台。一个载底片，一个载胶片。它的定位精度要求达到纳米级。

“相当于两架大飞机从起飞到降落，始终齐头并进。一架飞机上伸出一把刀，在另一架飞机的米粒上刻字，不能刻坏了。”

另外像是芯片上用的复合材料，光刻胶，高纯度化学品也多数都是日本专利。

ASML不是传统意义上的制造企业，更像芯片行业的“链主”，把美国、德国最顶尖的技术攥在手里，再用荷兰人的整合能力，变成一台台印钞机。

原本光刻机零部件供应商也是认钱不认人的，只要你付得起钱，德国供应商不会因为你是中国客户，就不卖给你高精度镜片。日本厂商也愿意把轴承卖给任何客户。

但是，2022年之后，美国搞了实体清单与出口管制后，很多零部件供应商开始自我审查，不敢把关键零部件卖给中国客户。

一个个零部件，中国自己突围封锁链

因此，这就逼着中国不断完善光刻机产业链上的关键零部件，在光源、镜头以及双工台等核心部件上，国产光刻机不断取得进展。

比如长春光机所2023年已经落地国产极紫外光源样机，国望光学的28nm浸润式镜头已经量产，正在攻关EUV级别的光学系统。

很长一段时间，双工件台技术只属于ASML，但全世界第二家掌握双工件台核心技术的公司，是华卓精科。

2026年，它们的磁浮双工件台定位精度达到了1.2纳米。曾经无数人说过"双工件台不可能国产化"，但华卓精科偏偏做到了。

但光刻机10万个零件，大部分不是核心大件，而是真空系统、陶瓷件、泵阀、射频电源这些“小玩意”，以前全靠进口，现在逼着国产厂商一个个突破。

以前射频电源是美国万机、日本大阪真空的地盘。过去国内不是做不出来，是做出来的电源功率不稳定，等离子体忽大忽小，刻出来的沟槽深浅不一。

英杰电气和北方华创的零部件部门，啃了好几年。2025年，国产射频电源在12英寸刻蚀机上跑通了验证，功率稳定性做到了和万机同一个量级。

虽然最顶级的型号还有差距，但成熟制程已经可以完全替代了。

另外是刻机里的陶瓷导轨，这虽然是个小部件，但直接决定了光刻机的精度和稳定性。这个小东西被称为精密设备的"骨骼"，过去长期被美日企业垄断。

2014年，山东淄博，有公司组建了光刻机用氧化铝陶瓷导轨项目组。

第十个年头，研制出了可替代国外同类产品的高纯度氧化铝陶瓷导轨，填补了国内空白。

此外，波长光电、奥普光电，一个做大孔径镜头，一个背靠长春光机所做高端光栅编码器，分辨率2.5nm，90nm、28nm机型都能用。

以前高纯氧化铝、氮化硅、碳化硅陶瓷部件，都是从日本、美国进口的。现在国内有厂商已经做出了12英寸产线上用的碳化硅手臂，开始批量供货。