国产光刻领域新突破快科技

璞璘科技近日向深圳力策科技正式交付型号为PL-AS的半导体级真空气压式纳米压印光刻机。该设备是国内首款光芯片专用纳米压印光刻设备，实现了国产光刻领域新突破。

此次交付的设备型号为PL-AS真空气压式纳米压印光刻机，全程绕开深紫外光刻路线，实现8英寸光芯片晶圆规模化量产。

该半导体级设备线宽分辨率小于10nm，晶圆整面压印压力均匀性误差低于 0.5%，同时支持无残余层压印工艺。

设备采用面接触气压工作模式，晶圆各区域受力均匀，可将残余层厚度偏差控制在2nm以内，适配光芯片生产要求。

对比辊压工艺，该方案规避线接触带来的形变问题；相较步进式设备，全域压印模式大幅提升量产效率。

它可实现跨尺度微纳结构一次成型，省去多道复杂光刻工序，在简化流程的同时保障产品生产良率。

本次合作聚焦激光雷达芯片量产，助力力策科技旗下光学相控阵芯片，面向车载、智能终端市场规模化落地。

技术层面，通过8英寸规模化量产验证，证实了国产纳米压印可在光芯片制造中稳定替代DUV工艺。

整套方案搭配定制双层压印胶材料体系，芯片制造成本压缩至传统DUV方案的十分之一。

目前这套纳米压印方案，已在光通讯化合物芯片、硅光环形导光结构芯片领域完成量产验证。