中国或成独立制造光刻机的国家？钛媒体

全球芯片圈又地震了。近期，美国两党议员联合抛出的一纸MATCH法案，不光要禁售DUV光刻机给中国，连已经卖出去的那些设备的安装、维修、软件更新、技术支持，一概禁止。成熟制程用的关键设备、低温蚀刻机这些也全算进去，要求荷兰等盟友在150天内实施同等禁令，禁令一出，荷兰这边立刻做出反应，4月7日，荷兰ASML公司股价开盘直接跳水近5%，上千亿市值瞬间蒸发。

这家垄断全球高端光刻机的巨无霸，今年的业绩恐怕要出现一个大窟窿。

我们知道，全球光刻机的厂商主要是荷兰ASML，日本的尼康、佳能，以及中国大陆的上海微电子。ASML一家独大，份额高达85%，佳能大约是10%，尼康是5%，上海微电子的份额为0.2%。

能造极紫外线EUV光刻机的，只此一家，别无分号。过去几年，美国逼着荷兰政府卡住了最先进的EUV对华出口，后来2023年10月17日又升级规则，扩大到人工智能芯片和更多工具，把ASML的NXT:1970Ci这种相对先进的DUV型号直接禁了，但相对老一点的DUV设备，中国还能买。

现在美国把所有光刻机的采购路子全部要堵死。所有的DUV浸没式光刻机，不光不让卖新机器，连售后维保都要断。美国认为，中国7nm芯片现在主要是用以前买的设备做出来的，光刻机是精密绝伦的设备，没有原厂工程师定期维护、更换零件，中国DUV坏了不能修，那么坏一台少一台，中国现有的DUV只能越用越少，芯片产能也只能收缩。

可以说美国算盘打得好，但ASML自己心里苦，ASML公司拒绝置评，因为中国过去是ASML光刻机最大的买家，这还是在EUV被完全限制的情况下，ASML官方预测，2026年中国市场营收占比将从2025年的33%降至20%左右。一旦新法案落地，这20%将直接归零。

比利时分析师罗格说法案可能导致ASML销售额出现个位数的下跌。但摩根大通的分析师Sandeep Deshpande显然更悲观，认为若法案通过，ASML的每股收益 (EPS) 可能减少高达10%。他同时指出，即使其他地区销售额大幅增长，也无法完全抵消中国市场的损失。

德什潘德甚至还认为会出现连锁反应。现在全球芯片产能本来就绷得紧，如果限制落地，中国芯片厂产能被压，全球芯片荒立刻就得重演。

有人会说，美国不仅卡DUV光刻机，还卡维修，中国怕不怕？

事实上，中企在2023年底就囤够了，根据2023年的数据，当时中国有1400台光刻机，2024年上半年进口额还几百亿欧元，第三季度从ASML拿了34亿欧元的货，确保产能短期没问题。

2025年，中国买走的光刻机金额高达80.1亿欧元，合计占到所有光刻机销售的33%。

荷兰媒体曾爆料，中国已经囤了足够的DUV光刻机，用5~10年都没有问题，也就意味着，即便ASML一台不卖，中国的存量也够用了。

其次，从当前的现状来看，维修卡不了中国的脖子，因为中国对美国这一后手早有准备，很多年前就已经在通过本土维修破局，生产光学元件这些易损件，少靠ASML。许多晶圆厂开始研究延长设备寿命的方案，工程团队尝试升级子系统组件，例如控制模块和传感装置。一些零部件通过拆机渠道获得，也有第三方维修团队参与，这个新生态正在形成。

拿精密光学镜头与激光功率补偿模块来说，这些曾被认为只有西方能生产的核心部件，在2026年3月的中国半导体设备展会上，已经有多家国产厂商拿出了能够适配存量机器的成熟产品。

此外像光刻胶的装载玻璃瓶，这种瓶子必须保证内部液体在储存中绝对不受污染。以往这种特殊的包装物几乎全依赖进口。但在2026年初，国产高性能包装容器已攻克了难关，实现了大规模量产，这意味着中国的半导体产业链已进入全方位“补齐”的阶段。

在接下来这5~10年内，是中国自主全力攻克浸润式DUV光刻机的关键时间窗口。

目前我国在28nm及以下的核心设备方面已取得决定性进展，国产28nm DUV光刻机核心参数对标ASML主流产品，而且国产设备的替代速度也在加快，阿斯麦的报告显示，中国对进口设备还有依赖，但像SSA600这种国产设备已经能用在90纳米的生产线上。

2023年日本限制23种半导体设备出口后，国内刻蚀、薄膜沉积等核心设备的国产替代率已从2025年的25% 提升至35%。

在2025年12月，上海芯上微装科技成功交付了AST6200型350纳米步进光刻机，这台光刻机的套刻精度，正面能做到80纳米，背面是500纳米，而且能兼容碳化硅、氮化镓等多种新型半导体材料，这对于5G基站、新能源汽车的电控系统、还有Micro LED显示屏等芯片制造来说完全够用，更关键的是这台设备国产化率高达83%，几乎所有核心零部件都是中国制造。