ASML新光源：功率1000瓦华尔街日报

据报道，阿斯麦的研究人员表示，他们已找到一种方法，可以大幅提升关键芯片制造机器的光源功率，从而在2030年前将芯片产量提高多达50%。更新中

阿斯麦（ASML Holding）的研究人员表示，他们找到了一种方法，可以提升关键芯片制造设备中的光源功率，到2030年使芯片产量提高多达50%。

ASML是全球唯一一家商业化生产极紫外光刻（EUV）设备的公司。EUV设备是芯片制造商生产先进计算芯片的关键工具，例如台积电、英特尔等企业都依赖该设备。EUV设备对芯片生产至关重要。

ASML负责EUV光源的首席技术专家Michael Purvis表示，“这不是一种噱头，或者只是短时间展示它可行的技术演示。这是一个可以在客户实际使用条件下持续输出1000瓦功率的系统。”

这一关键挑战在于：以合适的功率和特性生成EUV光，从而实现高产量芯片制造。研究人员已将EUV光源功率从目前的600瓦提升至1000瓦。最大的优势在于，更高功率意味着单位时间内可生产更多芯片，从而降低单颗芯片成本。

芯片的制造过程类似于摄影：EUV光照射在涂有特殊化学材料（光刻胶）的硅晶圆上。更强的EUV光源意味着晶圆曝光时间更短。