中国打造出极紫外光刻机原型机

华盛顿多年来一直试图阻止的东西可能在中国深圳的实验室诞生，路透社报道，中国科技人员在深圳一家高度戒备的实验室里制造出一台能够生产尖端半导体芯片的光刻机原型机。

报道援引消息人士称，这台由荷兰阿斯麦(ASML)前工程师团队于2025年初制造的机器正在进行测试，并成功产生了极紫外线，但尚未生产出可用的芯片。据指这些工程师对ASML的极紫外光刻机(EUV)进行了逆向工程。

迄今为止，只有位于荷兰费尔德霍芬的ASML公司掌握EUV技术。其设备对于制造英伟达和AMD等公司设计的、以及台积电、英特尔和三星等芯片制造商生产的最先进芯片至关重要。

极紫外光刻机是美中科技战的核心，它利用极紫外光束在硅晶圆上蚀刻出比头发丝细数千倍的电路，西方目前垄断着这一技术。

ASML首席执行官富凯今年4月表示，中国需要“很多很多年”才能研发出这一技术，但路透社的报道显示，中国在实现半导体自主方面可能比分析师预期的要快得多。

路透社援引的两位知情人士透露，中国在二手市场获得旧款ASML机器的零部件，得以最终制造出国产原型机。北京的目标是在2028年在这一原型机上生产出可用的芯片，但了解这一项目的人认为，2030年实现这一目标比较现实。

深圳的极紫外光刻机项目一直秘密进行，路透社援引三位消息人士称，华为在协调遍布全国的公司和国家科研机构网络中发挥着关键作用。