中国的芯片“曼哈顿计划”取得重大突破加美财经

中国的芯片“曼哈顿计划”取得重大突破，前ASML工程师打造出极紫外光刻机原型机。

在中国深圳一座安保严密的实验室里，中国科学家已经打造出一种原型机，能够生产最先进的半导体芯片，些芯片是人工智能、智能手机和西方军事主导地位所依赖的核心技术，而这正是华盛顿多年来一直试图阻止的事情。

AI生成原型机于2025年初完成，目前正处于测试阶段，看上去几乎占据了一整个工厂车间的面积。

据两位知情人士透露，这台设备由一组来自荷兰半导体巨头ASML的前工程师打造，他们对ASML极紫外光刻机（EUV）进行了逆向工程。

EUV光刻机在技术冷战中是关键。这种设备利用极紫外光束在硅片上蚀刻电路，这些电路比头发丝细成千上万倍。目前仍由西方垄断。电路越小，芯片就越强大。

知情人士表示，中国的这台机器已经投入运行，并成功产生了极紫外光，但尚未制造出可用的芯片。

ASML首席执行官克里斯托夫·福凯在4月表示，中国要发展出这项技术“还需要很多很多年”。但此次由路透首次披露的原型机的存在，表明中国实现半导体独立的时间可能比分析人士预期的更早。

不过，中国仍面临重大技术难题，尤其是在复制由西方供应商制造的高精度光学系统方面。