中国科技新规，新版IC布图条例公布

中国近日公布新版「集成电路（IC,积体电路）布图设计保护条例」，目的在保护积体电路布图设计（Layout Design）专利权，鼓励IC技术创新。其中新增「独创性声明」制度受到关注。

中国国务院总理李强7月23日签署国务院令，公布修订后的「集成电路布图设计保护条例」，自10月15日起施行。

澎湃新闻刊出中国社会科学院法学研究所研究员李顺德的专家分析文章说，此次修订的亮点之一在于增加「独创性声明」要求。

李顺德表示，积体电路布图设计的独创性是获准登记、取得法律保护的实体要件。「独创性声明」是条例修订增设的法定登记文件，是布图设计申请登记必须提交的申请文件之一。

他指出，布图设计的「独创性声明」把抽象的独创性判断要件（标准）转化为可审查、可举证的书面文件，申请登记后存入官方档桉，是判断布图设计是否具备独创性的法定关键书证。

李顺德指出，修订前的条例虽然规定独创性是积体电路布图设计登记、保护的实体性要件，但判定困难，判定成本高，甚至无法判定。修订后，增加「独创性声明」要求，用于界定、解释複製件或图样中的独创性部分，可以有效解决保护范围难以确定的现实难题。

根据新华社刊发中国司法部、国家知识产权局负责人回答记者提问。新版条例增加独创性声明要求，并规定提交的複製件或者图样应当清楚地显示该布图设计具有独创性的部分。

受保护的布图设计以登记的複製件或者图样所显示的为准，独创性声明可用于解释布图设计的独创性。在促进布图设计运用方面，要求行政部门採取措施，加强公共服务，促进布图设计运用。

这次新版条例也加强专有权（专利权）保护。明确权利范围界定标准，加大侵权赔偿力度。