ASML再强调：中国大陆没有EUV王新喜

美国一直疑神疑鬼，认为ASML把EUV光刻机卖给了中国，这背后是看到了中国突破高端芯片的潜力。

尤其是当下华为提出了韬定律和逻辑折叠技术，在不依赖EUV光刻机的前提下，通过对计算单元的电路布局进行堆叠设计，提升芯片的性能和晶体管密度，未来同样能达到EUV先进芯片水平。

美国怀疑ASML背后，或还不相信华为韬定律能做出媲美EUV光刻机做的先进制程芯片。

而ASML对于美国的疑心病与强迫症，给予了回应。

ASML向美方提供一份文件，指出ASML在全球运行的EUV光刻机总共有314台，其中26台已经退役，没有任何一台EUV光刻机在中国大陆。

EUV光刻机这么大的设备，有180吨，全球几千家供应商，蔡司的镜头、美国的光源技术、日本和欧洲的一堆精密材料，全都绕在里面。

运输、安装、调试、维护，每一步都要阿斯麦工程师介入。安装调试要几个月，客户根本没法自己拆运，后续还得靠原厂工程师常年驻场维护。

要分批运输，要厂房配合，要洁净室条件，还要长时间校准。这么个庞然大物，想避开海关、供应链记录，神不知鬼不觉地运进中国，可能性约等于零。

ASML CEO富凯还称公司内部早已经建立了技术防火墙，能够访问EUV技术、文档和培训资料的员工，与无法访问相关信息的员工完全隔离，而中国团队根本接触不到其关键技术细节。

而对于中国工程师逆向EUV的舆论，富凯也反驳称：“你无法逆向工程一台你从未拥有的机器，而中国大陆没拥有过它。”

可美国死活就不信，一口咬定你既然没有卖给他们光刻机，那为什么现在中国可以自己生产一批高性能芯片呢？所以美国咬定是荷兰出卖了美国。

对此荷兰百口莫辩，荷兰表示，在没证据的情况下，说中国团队即便想逆向EUV光刻机都做不到。

ASML首席执行官傅立奇强调，ASML之所以能够造出EUV光刻机，是建立在几十年来积累的技术基础之上，对于如何产生EUV光源这一问题单独就耗费了约二十年时间才被攻克。

在他看来，没有亲手接触过整机，哪怕是能拿到零散部件，也不可能逆向复制出一台完整的EUV系统，荷兰要表达的是，质疑中国正用一种行业“敏感”的技术方法开发设备，这完全是造谣行为。

美国疑神疑鬼，是因为看到中国芯片产业堵不住了，美国歇斯底里的封堵正倒逼中国企业开发自主可控的国产设备，而美国持续的出口管制，恰恰为中国的国产设备的自主化进程创造条件。

更何况，突破高端芯片的封锁，中国不止有一条路。

除了光刻工厂与光子芯片外，逻辑折叠技术是当前美国关注的没有EUV情况下的一种备选方案，通过3D堆叠和封装技术实现性能提升，这是AMD、英特尔、台积电等厂商一直在搞的技术方向，但华为正把这条路走通。

7月3日华为发布韬定律V2，实证可量产落地，构建了一套可迭代的芯片发展体系。

用麒麟2026（逻辑折叠架构）和9030Pro（传统设计）进行等性能实测，结果更优：晶体管有效密度提升55%；整体功耗下降41%，能效提升69%；芯片功率密度大幅优化。

未来在韬定律下，通过密度提升相当于传统工艺的多次迭代，等效逼近先进制程水平。

美国有了新反思：不能让印度成为下一个中国

从中国芯片产业的势头来看，美国已意识到中国芯片崛起无可阻挡，因此，美国现已有了新的反思——就是不能让印度成为下一个中国。

美国副国务卿克里斯托弗·兰道此前在公开报道的活动中发言表示：“印度应该明白，我们不会像20年前对中国那样犯同样的错误，当时我们说，我们会让你们发展所有这些市场。”

然后中国成功崛起，在很多领域内都击败了美国。克里斯托弗·兰道表示：“我们将确保我们所做的任何事情对我们的人民是公平的，因为最终，我们必须对我们自己的人民负责，正如印度政府必须对它的人民负责一样。”

所以外界猜测，美国将更公开、更强硬地扼制印度的经济科技的发展。

而美国要遏制印度的一个重要产业方向，同样是芯片。恰恰印度现在喊口号要成为全球有领导力的芯片大国。

据《EE Times》新闻指出，5月份印度公共政策智库NITI Aayog发布了《印度半导体产业的未来》报告，指出印度确定了2035年构建1200亿至1500亿美元半导体价值链的战略目标，并且制定了一条以印度经济增长和战略自主性为核心的路线图。