中国全抄艾司摩尔，仍大幅落后

路透日前披露，中国为突破美国半导体技术封锁，秘密进行“中国曼哈顿”计划，透过逆向工程，成功打造制造先进半导体的极紫外光机（EUV）原型机。路透进一步披露，负责打造EUV原型机的艾司摩尔（ASML）前工程师皆以变造的身分工作，而未能取得德商蔡司（Carl Zeiss）的光学系统，是该原型机大幅落后艾司摩尔EUV的关键原因。

两名知情者说，一名被招聘从事该计划的前ASML华裔资深工程师，惊讶发现他除了丰厚的签约奖金，还有一张化名身份证。当他进入深圳戒备森严的实验室开始从事该计划后，认出其他前ASML同事，他们也以假名工作。另一人独立证实，招聘来的科学家取得假身份证，以向内部其他工作人员隐匿身分。

他们说，北京的指示很明确：基于国安机密，该建物之外，没有人可以知道他们在什么事，甚至完全不知道有这批人存在。他们也说，该团队包括近期退休的前华裔ASML工程师与科学家，这些人是首要目标，因为他们握有敏感的科技知识，而离职后的职业限制较少。

两名现在在荷兰ASML工作的华裔员工表示，至少从2020年开始，华为招聘人员就开始接触他们。

知情者透露，ASML的老将使深圳的突破成为可能，没有他们对EUV技术的深入了解，逆向工程是不可能成功的。

路透检视中国政府文件显示，相关招募是中国2019年向海外挖角半导体专家的计划一部分，该计划提供300万至500万人民币（台币1343万至2238万元）签约奖金以及购屋补贴。被招聘者包括ASML前光源技术主管林楠，他在中国科学院上海光学精密机械研究所的团队，于18个月内申请了8项EUV光源相关专利。

知情者说，中国的EUV原型机相较ASML的机器显得粗糙，但足以进行测试运转。中国的落后主要在于，研究人员无法取得德国蔡司公司的光学系统，蔡司是ASML的关键供应商。