中国芯片制造技术取得重大突破？德闻

对于中国工程师已成功建造出一台极紫外光刻（EUV）设备原型机的媒体报道， 《新苏黎世报》评论到，如果消息属实，不仅意味着中国比预期更早地突破了高端芯片制造设备的瓶颈，也将对全球科技竞争产生重大影响。《法兰克福汇报》则评论称，欧洲人发明的EUV技术已经成了中美博弈的核心，也将决定欧洲人在未来全球科技版图中的地位。

德语媒体：中国芯片制造技术取得重大突破？图像来源: picture alliance/dpa

《新苏黎世报》发表分析文章写道，高端芯片是人工智能以及尖端军事技术的基础，因此一直以来都是中美博弈中的关键战场。多年来，华盛顿通过出口管制和制裁手段，试图切断中国获取高端芯片的途径。但与此同时，中国也加快了芯片技术的自主研发，希望摆脱在这一领域对西方的高度依赖。这篇题为《中国可能在核心技术领域取得了突破》的分析文章写道：

“中国明显落后于西方的技术领域已经所剩无几，而芯片制造设备就是其中之一。在西方，当前最先进的人工智能芯片都是通过极紫外光刻机（EUV）技术生产的。这是一种使用超短波长光线的光刻技术，能够制造出极其细微的结构，从而使高性能芯片的制造成为可能。在全球范围内，只有荷兰的阿斯麦（ASML）能够生产出这样的高端芯片制造设备。也正因为如此，华盛顿从一开始就一直在阻挠北京获得阿斯麦的高端设备。

“只有荷兰的阿斯麦（ASML）能够生产出高端芯片制造设备”。图像来源: Ruffer/Caro/picture alliance